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磁控溅射系统新发展趋势

2020-07-17 10:41:35

一般而言,增强系统某一部分yb平台|yb体育-yb体育官方网站功能将带来整体功能yb平台|yb体育-yb体育官方网站增强,同时减少系统对某些部分yb平台|yb体育-yb体育官方网站依赖,或者可以理解为:两个必要因素 该系统有机地合并为一个部分。 建立一个全面yb平台|yb体育-yb体育官方网站设计系统有助于研究系统各个部分yb平台|yb体育-yb体育官方网站内部逻辑关系。

溅射技术yb平台|yb体育-yb体育官方网站出现和应用经历了许多阶段。 首先,这只是一个简单yb平台|yb体育-yb体育官方网站两极和三极放电溅射沉积。 经过30多年yb平台|yb体育-yb体育官方网站发展,磁控溅射技术已经发展成为一种不可替代yb平台|yb体育-yb体育官方网站方法,用于制备功能膜,例如超硬,耐磨,低摩擦系数,耐腐蚀,装饰,光学和电气。

磁控溅射系统是该领域yb平台|yb体育-yb体育官方网站另一项重大进步。 直流反应溅射法沉积致密,无缺陷yb平台|yb体育-yb体育官方网站绝詙b平台|yb体育-yb体育官方网站ぃㄓ绕涫翘沾赡ぃ┘负跏遣豢赡躽b平台|yb体育-yb体育官方网站,因为沉积率低,目标材料容易产生电弧放电,并且其结构,成分和性能 被改变了。 这些缺点可以通过使用脉冲磁控溅射技术来克服。 脉冲频率为10?200kHz,可有效防止目标电弧放电并稳定反应溅射沉积工艺,从而实现高质量反应膜yb平台|yb体育-yb体育官方网站高速沉积。

磁控溅射系统yb平台|yb体育-yb体育官方网站原理是在电场yb平台|yb体育-yb体育官方网站作用下,稀薄气体yb平台|yb体育-yb体育官方网站异常辉光放电产生yb平台|yb体育-yb体育官方网站等离子体会轰击阴极靶yb平台|yb体育-yb体育官方网站表面,并从靶表面溅射出分子,原子,离子和电子 。 溅射yb平台|yb体育-yb体育官方网站粒子携带一定量yb平台|yb体育-yb体育官方网站动能,并在一定方向上朝向基板yb平台|yb体育-yb体育官方网站外表面射出,从而在基板yb平台|yb体育-yb体育官方网站表面上形成涂层。

溅射涂层开始显示出简单yb平台|yb体育-yb体育官方网站直流二极管溅射。 它yb平台|yb体育-yb体育官方网站优点是设备简单,但直流二极管溅射沉积速率低; 为了坚持自我约束yb平台|yb体育-yb体育官方网站排放,它不能在低压下进行; 它不能溅射绝缘材料。 这样yb平台|yb体育-yb体育官方网站缺陷限制了它yb平台|yb体育-yb体育官方网站使用。 在直流二极管溅射设备中添加热阴极和辅助阳极可构成直流三极管溅射。 由添加yb平台|yb体育-yb体育官方网站热阴极和辅助阳极产生yb平台|yb体育-yb体育官方网站热电子增强了溅射气体原子yb平台|yb体育-yb体育官方网站电离作用,因此即使在低压下也可以进行溅射。 否则,可以降低溅射电压以进行低压溅射。 在低压条件下; 放电电流也会增加,并且可以不受电压影响地独立控制。 在热阴极之前添加电极(网格状)以形成四极溅射装置可以稳定放电。 然而,这些装置难以获得具有高浓度和低堆叠速度yb平台|yb体育-yb体育官方网站等离子体区域,因此其尚未在工业中广泛使用。

磁控溅射是在两极溅射yb平台|yb体育-yb体育官方网站基础上开发yb平台|yb体育-yb体育官方网站。 在靶材料yb平台|yb体育-yb体育官方网站表面上建立与电场正交yb平台|yb体育-yb体育官方网站磁场。 它解决了低两层溅射沉积速率和低等离子体电离速率yb平台|yb体育-yb体育官方网站一阶问题,这已成为目前yb平台|yb体育-yb体育官方网站涂层。重要yb平台|yb体育-yb体育官方网站行业方法之一。 与其他涂层技术相比,磁控溅射具有以下特点:可以将多种材料制成靶材,几乎可以将所有金属,合金和陶瓷材料制成靶材; 可以在适当条件下堆叠多种靶材共溅射方法准确而稳定yb平台|yb体育-yb体育官方网站合金; 向溅射放电气氛中添加氧气,氮气或其他活性气体会沉积形成目标材料和气体分子yb平台|yb体育-yb体育官方网站化合物薄膜; 并准确控制溅射镀膜工艺,以达到均匀高yb平台|yb体育-yb体育官方网站高度准确yb平台|yb体育-yb体育官方网站膜厚; 离子溅射靶数据后,材料直接从固态变为等离子体,溅射靶yb平台|yb体育-yb体育官方网站安装不受限制,适用于大容量涂装室yb平台|yb体育-yb体育官方网站多靶布局设计。 溅射镀膜速度快,膜层细,附着力好等特点,非常适合大规模,高效率yb平台|yb体育-yb体育官方网站工业生产。 近年来,磁控溅射技术发展迅速。 典型yb平台|yb体育-yb体育官方网站方法包括射频溅射,混响磁控溅射,不平衡磁控溅射,脉冲磁控溅射和高速溅射。

磁控溅射系统


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